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掩模版
更新時(shí)間：2025-09-19 13:10:16
掩模版(mask)簡(jiǎn)稱掩模，是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形，光線透過它，把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決...
掩模版是光刻工藝不可缺少的部件。掩模上承載有設(shè)計(jì)圖形，光線透過它，把設(shè)計(jì)圖形透射在光刻膠上。掩模的性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。
目前本公司可定制不同尺寸的掩模版。
